市場概況
集束イオンビームは、FIB対応機器によって生成される高エネルギーイオンビームです。この装置は、主に半導体産業や3Dイメージング技術で使用されています。電子・半導体業界での故障分析の需要の増加、およびサンプルの表面全体にパターンを生成するための集束イオンビームシステムを使用したイオンビームリソグラフィプロセスの需要の増加は、集束イオンビーム市場の成長を後押しする主な要因です。

無料サンプルPDFレポート: https://www.sdki.jp/sample-request-61959

集束イオンビーム市場セグメント
集束イオンビーム市場は、イオン源別（Ga +液体金属、プラズマ）、アプリケーション別（故障分析、ナノファブリケーション、デバイス変更、回路編集、偽造検出）、業種別（電子・半導体、産業科学、材料科学、生物科学）、および地域別に分割されます。

集束イオンビーム市場セグメントは、予測期間中に最大なCAGRで成長すると予測されています。
イオン源に基づいて、Ga +液体金属セグメントは、2023ー2035年の間に集束イオンビーム市場をリードすると予測されています。Ga +液体金属イオン源は、小型のイオンビーム（5nm）を提供し、必要な発光面積が小さく、高輝度（> 106 A / cm-sr）を提供し、融点が低い（29.8℃）ため、エンドユーザーに広く使用されています。

集束イオンビーム市場の地域概要
集束イオンビーム市場は地域に基づいてさらに細分化されており、各国の市場成長が評価されます。これらには、北米（米国、カナダ、およびその他の北米）、ヨーロッパ（ドイツ、フランス、イタリア、スペイン、英国、およびその他のヨーロッパ）、アジア太平洋（中国、日本、インド、オーストラリア、シンガポール、およびその他のアジア太平洋）およびその他の地域が含まれます。

競争力ランドスケープ
集束イオンビーム市場の主要なキープレーヤーには、Thermo Fisher Scientific, Inc. (米国)、Hitachi High-Technologies Corporation (日本)、ZEISS International (ドイツ)、Tescan (英国)、JEOL Ltd. (日本)、HORIBA, Ltd. (日本)、Eurofins Scientific (ルクセンブルグ)、A&D Company, Limited (日本)などがあります。

原資料: SDKI Inc 公式サイト